EUV-литография (Extreme Ultra-Violet Lithography) это технология изготовления микроэлектроники, которая использует экстремально короткую длину волны в диапазоне 13.5-14 nm для экспозиции матрицы на полупроводниковый слой.
EUV-литография позволяет создавать менее тонкие и более точные элементы чем другие технологии литографии, что важно для разработки более мощных и маленьких микроэлектронных устройств. EUV-литография также сложна в исполнении и требует специальных условий, таких как высокая температура и вакуум.