Пока Китай утопает в санкциях, Пекин стремится достичь независимости в производстве чипов

В конце этого года Китай планирует представить 28-нанометровую литографическую машину собственной разработки. Это станет прорывом в стремлении Пекина к технологической самодостаточности на фоне усиливающихся экспортных санкций со стороны США.

Буквально вчера мы сообщали, что сейчас активно Китай обходит американские ограничения путём наращивания производства устаревших чипов. Санкции на них не распространяются, однако такое резкое увеличение производства всё же вызвало обеспокоенность у США и ЕС, которые переживают, что Китай заполонит рынок дешёвыми чипами, всё ещё востребованными во многих отраслях.

Так или иначе, это лишь временная мера, потому что Китай делает ставку на собственную независимость. Слухи о скором выпуске Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографической машины на основе 28 нм то и дело всплывали ещё в 2020 году, но лишь сейчас для скорого перехода на современный техпроцесс есть по-настоящему веские основания.

Сейчас Китай частично полагается на передовые EUV-литографы голландской ASML. Однако поставки подобного рода оборудования, используемых так же компаниями TSMC, Samsung и Intel, уже прекращены.

Неопределённость нависла и над будущими поставками передовых моделей литографов от ASML. С 1 сентября Нидерланды могут потребовать лицензию на экспорт, что также может стать проблемой для Китая.

А в июле этого года экспорт 23 видов чипов и оборудования ограничила Япония. Эти действия координируются с Вашингтоном, внедрившим в октябре контроль на поставки в Китай компаний Lam Research и Applied Materials.

Кроме того, Китай также рискует лишиться доступа к более старым DUV от ASML. По данным СМИ, США готовят правила, позволяющие запретить отгрузку иностранного оборудования с малой долей американских комплектующих.

Это «сильно затронет» китайских поставщиков, поскольку страна обладает лишь частичным самообеспечением по современным техпроцессам, считает Чжан Сяорун из исследовательского института Shendu Technology. Отечественные литографические проекты отстают от западных на целых 10 лет.

SMEE пока что способна массово выпускать литографы с устаревшим разрешением 90 нм, пригодные лишь для производства простых чипов. Однако и этот процесс сильно зависит от импортных материалов.

Таким образом, с учётом всех навалившихся на Китай санкций и ограничений, сейчас самое время представить инновационное оборудование, которое сможет перекрыть большинство нужд Поднебесной по экспорту чипов, позволив ей снова «вернуться в седло».