Иммерсионная литография - метод изготовления микросхем и других микроэлектронных устройств, использующий свойства светочувствительных материалов для создания тонких пленок и производства точных и тонких микроструктур.
В иммерсионной литографии используется светочувствительный материал, который подвергается определенной энергии и затем наносится на поверхность подложки. Материал затем размывается и оставляет тонкую пленку, которая используется для создания микроструктур. Для создания точных и тонких микроструктур используется маска или стеклянная пластина с определенным образом отраженным светом.
Иммерсионная литография является основным методом для изготовления микросхем и других устройств, таких как процессоры, память, интегральные схемы и солнечные батареи. Метод позволяет создавать тонкие и точные микроструктуры с высокой точностью и контролируемой толщиной пленок. Также иммерсионная литография позволяет изготавливать микроструктуры с высокой плотностью интеграции, что важно для многих приложений, таких как мобильные телефоны, компьютеры и интернет вещей.