EUV
EUV
Alexander Antipov
EUV-литография (Extreme Ultra-Violet Lithography) это технология изготовления микроэлектроники, которая использует экстремально короткую длину волны в диапазоне 13.5-14 nm для экспозиции матрицы на полупроводниковый слой.
EUV-литография позволяет создавать менее тонкие и более точные элементы чем другие технологии литографии, что важно для разработки более мощных и маленьких микроэлектронных устройств. EUV-литография также сложна в исполнении и требует специальных условий, таких как высокая температура и вакуум.
EUV-литография позволяет создавать менее тонкие и более точные элементы чем другие технологии литографии, что важно для разработки более мощных и маленьких микроэлектронных устройств. EUV-литография также сложна в исполнении и требует специальных условий, таких как высокая температура и вакуум.
CYBERLINK
0
1
1
0
1
0
0
1
1
0
1
1
0
1
0
0
1
1
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
1
0
1
1
0
1
0
0
1
1
0
1
1
0
0
1
1
1
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
1
0
0
1
1
0
0
1
1
1
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
1
0
0
1
0
1
0
1
1
0
1
1
0
0
1
0
0
1
1
0
1
0
1
1
0
1
0
1
1
0
1
1
0
0
1
0
0
1
1
0
1
0
1
1
1
1
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
0
0
1
1
0
1
0
0
1
0
1
0
0
1
1
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
0
1
0
0
1
1
0
1
0
1
1
0
1
0
0
1
27.08
live
27 августа · кибердом, москва
В Москве обсудят
киберриски бизнеса
SecurityLab — партнёр события
CYBERLINK→
реклама
Жадность или расчёт? Крупнейший завод по производству чипов внезапно отказался от передового оборудования
Похоже, бесконечная гонка за прогрессом окончательно зашла в тупик.
EUV-революция от SMEE: китайский патент в сфере чипов ставит под удар мировых лидеров
Компания бросает вызов ASML – лидеру полупроводниковой индустрии.
High NA: революция в создании компактных микросхем
Новинка бьёт все рекорды в скорости изготовления электронных схем.
Пока Китай утопает в санкциях, Пекин стремится достичь независимости в производстве чипов
Местный гигант полупроводниковой отрасли активно работает над DUV-литографом, способным покорить современные техпроцессы.