DUV

DUV-литография (Deep Ultraviolet Litography) - это технология производства полупроводниковых микросхем, использующая ультрафиолетовое излучение с короткой длиной волны (обычно 193 нм), чтобы создавать мелкие структуры на поверхности кремниевой подложки.

В процессе DUV-литографии, свет проходит через оптическую систему, содержащую маску с шаблоном, который необходимо повторить на чипе. Затем свет попадает на фоторезист (полимерный светочувствительный материал), покрывающий поверхность кремния. После экспозиции светом фоторезист преобразуется, и затем поверхность кремния обрабатывается для удаления лишнего материала. Таким образом, происходит формирование очень мелких структур, таких как транзисторы и проводники, которые составляют микросхемы и другие электронные устройства.