Пять атомарных слоёв снимают один из главных барьеров трёхмерной памяти

5952
Пять атомарных слоёв снимают один из главных барьеров трёхмерной памяти

Память научили расти этажами без электрических утечек.

image

Чем плотнее инженеры упаковывают ячейки памяти, тем сложнее заставить ток идти только туда, куда нужно. Исследователи создали туннельный селектор из пяти вертикально сложенных слоёв ван-дер-ваальсовых материалов, который подавляет паразитные токи, выдерживает более 1012 циклов и переключается менее чем за 20 нс. Разработка закрывает сразу несколько требований, мешавших масштабировать кроссбар-массивы и наращивать память в третьем измерении.

Работу провела международная команда под руководством специалистов Университета Южной Калифорнии при участии Университета Флориды, исследовательских подразделений ВВС и Армии США и японского Национального института материаловедения. Статья вышла 7 сентября в Nature Electronics.

Кроссбар-память устроена как решётка из пересекающихся проводников, между которыми находятся элементы хранения данных. Архитектура позволяет очень плотно размещать ячейки и складывать несколько массивов друг над другом. Проблема возникает при чтении или записи: ток способен пройти через соседние невыбранные ячейки по обходным маршрутам. Паразитные пути увеличивают энергопотребление и мешают точно определить состояние нужной ячейки.

Для борьбы с утечками рядом с элементом памяти устанавливают селектор. Компонент должен почти полностью блокировать ток при небольшом напряжении и резко открывать проводящий канал после достижения рабочего уровня. Для крупных массивов одного сильного контраста недостаточно: селектор одновременно должен выдерживать огромное число операций, быстро срабатывать, сохранять характеристики при изменении температуры и мало отличаться от экземпляра к экземпляру.

Авторы собрали структуру из графена, дисульфида молибдена, основного туннельного барьера, ещё одного слоя дисульфида молибдена и второго графенового электрода. Материалы образуют градуированный энергетический барьер. При небольшом напряжении электронам трудно пройти сквозь структуру, а повышение напряжения резко увеличивает вероятность квантового туннелирования. За счёт подобной зависимости селектор пропускает большой рабочий ток и одновременно удерживает ток утечки на низком уровне.

Перед изготовлением устройств исследователи построили теоретическую модель и с её помощью рассчитали два варианта центрального барьера. В первой версии использовали гексагональный нитрид бора. Нелинейность селектора превысила 107, то есть ток в рабочем режиме отличался от тока при пониженном напряжении более чем на семь порядков. Устройство выдержало свыше 1012 циклов, переключалось менее чем за 20 нс и показало слабую зависимость характеристик от температуры вместе с небольшим разбросом между отдельными образцами.

Во второй версии центральным материалом стал сульфид галлия. Нелинейность превысила 106, а рабочее напряжение удалось снизить до 2,5 В. Более низкое напряжение упрощает сочетание селектора с окружающей электроникой и уменьшает требования к цепям управления.

Преимущество ван-дер-ваальсовых материалов связано не только с электрическими характеристиками. Атомарно тонкие кристаллы можно складывать друг на друга без жёсткого требования к совпадению кристаллических решёток соседних материалов. Границы между слоями получаются резкими и хорошо контролируемыми, что особенно важно для туннельного барьера, где небольшое изменение структуры заметно влияет на ток.

Команда проверила селекторы не только отдельно. Устройства объединили с резистивными элементами памяти по схеме «один селектор - один резистор», включая мемристор на основе оксида гафния, а также собрали ячейки «один селектор - один конденсатор». Эксперименты показали возможность работы с энергонезависимой и энергозависимой памятью, поэтому конструкция не привязана к единственному типу ячейки.

Авторы сравнили характеристики с другими технологиями селекторов. Главным результатом стала не рекордная величина одного параметра, а сочетание высокой нелинейности, ресурса свыше триллиона циклов, наносекундного быстродействия, температурной стабильности и небольшого разброса характеристик в одном двухконтактном элементе.

Исследование пока не демонстрирует готовую многоэтажную микросхему памяти. Эксперименты охватывают отдельные селекторы и интегрированные ячейки, поэтому перед промышленным применением потребуется перенести принцип на крупные массивы и технологические процессы массового производства. Пятислойная структура решает фундаментальную задачу, без которой дальнейшее уплотнение кроссбар-памяти и полноценное трёхмерное размещение ячеек остаются затруднительными.