Canon представляет литографическую машину для производства чипов с 5 нм техпроцессом

В области производства высокотехнологичных чипов голландская компания ASML долгое время занимала лидирующие позиции. Тем не менее, инновационная литографическая технология от Canon готова предложить серьезную конкуренцию.

В пятницу японский гигант Canon, широко известный своими профессиональными камерами, анонсировал новую технологию на основе наноштамповой литографии (NIL). По заявлениям компании, эта технология позволит создавать элементы с техпроцессом вплоть до 5 нм. С учетом дальнейших исследований Canon планирует достичь производства элементов с 2 нм техпроцессом, обеспечив высокое качество и минимальные дефекты.

Технология Canon на основе наноштамповой литографии (NIL) представляет собой серьезную конкуренцию ультрафиолетовой литографии (EUV) от ASML. Отличительной особенностью NIL является ее независимость от сложных оптических систем и зеркал, используемых в EUV. Это может позволить Canon обходить американские экспортные ограничения на передовое оборудование для чипов, предназначенное для Китая.

Принцип работы технологии Canon заключается в применении маски с нанесенным дизайном на резистивный слой кристалла, аналогично процессу печати. Как подчеркнула компания, это позволяет создавать сложные двух- и трехмерные схемы одним движением.

Помимо повышения эффективности, Canon обещает более демократичные цены по сравнению с ASML. Дорогостоящие EUV-системы могут позволить себе немногие, ведь каждая такая установка обходится компаниям в сотни миллионов долларов.

Наноштамповая литография позволит менее крупным производителям чипов создавать передовые микросхемы, рынок которых сейчас практически полностью контролируется гигантами индустрии. Технология от Canon использует более простой метод нанесения рисунка на кремниевую пластину - путем прямого контакта с шаблоном вместо сложной и дорогой оптики. Это и поможет разработчикам снизить стоимость производства. Кроме того, благодаря новому методу можно будет выпускать чипы небольшими партиями, делая их более доступными.

Специалисты утверждают, что оборудование Canon использует лишь одну десятую энергии, которая требуется для работы EUV, для достижения аналогичной производительности.

На фоне ажиотажа вокруг новинки акции Canon с начала года подскочили на 27%. Аналогичный показатель у еще одного игрока этого сегмента, компании Nikon, составляет 24%.

"Я не ожидаю, что технология наноштамповки вытеснит EUV, но уверен, что она откроет новые возможности для производителей и создаст спрос", - комментирует Фудзио Митарай, топ-менеджер компании. "Мы уже получаем множество запросов от клиентов."

Тем не менее, несмотря на амбициозные заявления Canon о техпроцессе до 5 нм, аналитик из Gartner Гаурав Гупта высказал опасения. Он заметил: "Было бы удивительно, если бы Canon действительно совершила прорыв". Гупта также добавил, что реальные изменения на рынке стоит ожидать не раньше, чем через пять лет, и акцент будет сделан на технологии памяти.

Однако, если технология проявит себя как эффективное решение для создания новейших логических схем, Гупта предполагает, что на ее экспорт в Китай могут быть наложены ограничения.